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研磨盘是制造半导体行业超大规模集成电路用硅片的重要工艺设备。常用的铸铁或碳钢研磨盘使用寿命低，热膨胀系数大。硅晶片加T工艺，尤其是高速研磨、抛光时，由于研磨盘的磨损和热变形，使得硅片平面度的和平行度难以保证。利用碳化硅陶瓷制成的研磨盘，因其硬度高，磨盘磨损小，热膨胀系数基本上与硅片相同，可高速研磨、抛光。尤其是近年来，石墨对碳化硅密封件硅片的尺寸不断增大，对硅片研磨的质量和效率提出了更高的要求。采用碳化硅陶瓷研磨盘，可大大提高硅片的研磨质量和效率。

与此同时，碳化硅陶瓷研磨盘也可以用于研磨、抛光其他材料的片状或块状物体平面。随着工业的发展，尤其是1So14000国际标准的实施，对不稳定的环境保护液体的输送提出了更高的要求，即V型磁力泵件。由于采用静密封取代机械密封、填料密封等动密封，磁力泵的泄漏小，可靠性高，使用寿命长。对磁力泵一般要求的“免维护”时间为八年，碳化硅密封件批发商即要求连续运转八年不能拆卸，因而对磁力泵件的材料选择要求极其严格。例如泵轴、止推板、轴套等，必须耐磨损、耐腐蚀。现有能满足以上条件的材料只适合碳化硅陶瓷。