超细研磨设备
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具体成交价以合同协议为准
2022-03-13 13:40:01
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上海依肯机械设备有限公司

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产品简介

超细研磨设备,锥型刀具间隙可调节至Z小,来减小颗粒粒径,从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高硬质材料,如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷,具有*的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护,防止被磨损或腐蚀。

详细介绍

超细研磨机,超细研磨设备,超细胶磨机,高剪切研磨机,高剪切胶磨机

超细研磨设备可广泛应用于电池材料、电子材料、陶瓷铀料、颜料、bai炭黑、钛bai粉、颜料、金属粉末、机械合金、金属氧化物、石墨、化工等领域。
在高档钛bai粉(白炭黑)的生产过程中,超细研磨是一个*的工艺。但是这并不是说研磨设备是高档钛bai粉(白炭黑)的“”,其实锐钛型钛bai粉更需要超细研磨,因为锐钛型钛bai粉多用于化纤领域,而化纤产品对钛bai粉粒度的要求更高,所以锐钛型产品需要磨得更细。随着化纤业的不断扩张,高品质锐钛型钛bai粉的消费潜力正在不断增长,利润空间相当可观。研磨属于钛bai粉生产的后处理工序,直接影响到产品的分散性、遮盖率、纯度等性能。
  CMO2000系列锥体磨(胶体磨),它的设计使其功能在原有的CM2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000系列锥体磨(胶体磨)能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。锥体磨(胶体磨)的研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。  锥体磨(胶体磨)的研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。

湿法研磨设备是将物料分散在【液体】中研磨,研磨后的产品一般需要干燥工序;干法研磨设备是将物料在【自然干状态下】或者【气体】中研磨,研磨后产品不需要干燥工序。干法研磨设备zui细可以将物料研磨到1-3微米,而湿法研磨设备zui细可以研磨到100纳米或更细。    

超细研磨机,锥型刀具间隙可调节至zui小,来减小颗粒粒径,从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高硬质材料,如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷,具有*的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护,防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同,可以灵活调节间隙,保证处理效果的均一。

传统在加工超细、超硬、超纯物料时碰到的三个技术难题为: 

  一、磨不细:是传统zui难解决的问题之一。因为,在介质磨设备中,要将物料破碎到更细,必须在使用更小的研磨介质,而小尺寸介质的质量也小。要提高介质的动能,只有增大其运动速度,由于受浆料阻尼及介质加速距离小的限制,介质很难在密闭容器中获得大的运动速度。

  二、分不离:是传统又一难题。一般所研磨产品zui终平均细度约为所用介质尺寸的1/1000。假如研磨产品细度为100nm,应该使用介质的尺寸为0.1mm。 如此小尺寸介质与纳米尺寸物料的机械分离(通过缝隙网)是十分困难的。

  三、纯不够:在特定情况下产品纯度是判定产品质量合格的*标准。否则,即使细度达到了,介质与物料也分离了,但被污染了的物料还是属于废品。

基于以上技术难题,我公司的CMO锥体磨研磨机理非同于介质研磨设备,*可以避免以上问题。


锥体磨

流量

输出

线速度

功率

入口/输出连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


 CMO 2000/4

50

9,000

23

1.5

DN25/DN15

 CMO 2000/5

200

6,000

23

5.5

DN40/DN32

 CMO 2000/10

500

4,200

23

15

DN50/DN50

 CMO 2000/20

1500

2,850

23

37

DN80/DN65

 CMO 2000/30

3000

1,420

23

55

DN150/DN125

 CMO 2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

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