等离子电浆抛光设备-DYECMA600A

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具体成交价以合同协议为准
2023-08-05 08:28:36
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产品简介

等离子抛光机基本原理介绍:等离子电浆抛光设备是利用工件与抛光液中通电脱离的金属离子来达到抛光工件表面的结果

详细介绍

           

等离子抛光机基本原理介绍:

  等离子电浆抛光设备是利用工件与抛光液中通电脱离的金属离子来达到抛光工件表面的结果。需要抛光的工件体吸附在工件表面,因电浆作用于工件凸起处,等离子在盐溶液中形成高电流冲击而去除工件凸部位,等离子抛光机特点是去除速度快、不破坏工件结构。在等离子抛光过程中,由于电流的不断流动,工件表面凹凸部位不断变化,粗糙表面逐渐被整平,工件毛刺也被磨平整。以此达到抛光金属工件的目的。

 

等离子抛光设备运行原理

  等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。

  等离子的出现,就是在高温高压下,通过抛光剂水溶液的帮助,因在高温高压条件下,电子会脱离原子核而跑出来,这样原子核就形成了一个带正电子的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以组成为等离子态,等离子态能量很大,当这些离子在和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。速度是传统抛光设备的。

同时,因为溶液不参加化学反应,基本上零消耗,所以使用成本非常低,与传统的化学电解抛光相比,成本基本可以忽略不计。

 

等离子抛光设备的优势

  等离子抛光机技术是一种全新的金属表面处理工艺,等离子抛光过程中,仅是工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1~0.3nm,而大源智能等离子抛光技术处理深度为0.3~4.5纳米。一般而言,抛光物的表面粗糙度在1mm范围内,因此等离子纳米化学活化技术,可以的抛光工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质,在抛光金属工件表面的同时,还能做到清洁油污的作用。

 

等离子抛光设备适用的行业:

  手机电子、集成电路制造、运动器材(高尔夫球具)、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、科研、手表饰品、汽车配件、LED制程、数码配件、精密模具、航空航天及五金制品等行业,都需要用到等离子抛光设备。




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