品牌
其他厂商性质
上海市所在地
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动（靠步进电机控制）的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备工作温度为1200℃。
设备特点：坩埚通过一步进电机控制炉管，按照设定程序移动，同时坩埚后端安装一热电偶（随坩埚仪器移动)，可实时监测样品的温度，意味着可通过移动坩埚的位置，在炉体中准确找到实验所需要的温度，使得实验准确度更高，重复性更强。此款设备可用于多种实验，比如HPCVD（hybrid physical chemical deposition），快速热蒸发，也可用于水平布里奇曼（Bridgman）法来长晶体。
| 技术参数 | |||
|---|---|---|---|
| 高温炉部分 | ● 炉体设计为开启式，以便于更换炉管 ● 工作电源：208 - 240 VAC, 50/60Hz ● 功率为：2KW ● 工作温度：1200℃（<1hr) ● 连续工作温度：1100℃ ● 加热区长度：200mm ● 恒温区长度：60mm(+/-1℃ @ 1000 ℃ ) 注：由于测量手段及外部环境的影响，测量结果可能会有偏差，此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据，请与我公司销售人员联系 ● 炉管：高纯石英管，尺寸50mm O.D x 44mm I.D x 450mm L)（点击图片查看详细资料） | ||
| 温度控制系统 | ● 采用PID30段程序化控温，其控温精度为+/-1℃ ● 控温仪表操作视频 ● 设有过热和断偶保护 ● 热电偶采用K型热电偶 | ||
| 真空密封 | ● 采用KF结构密封法兰，硅胶密封圈密封 ● 法兰上安装有一机械压力表 ● 右端法兰与一个真空不锈钢波纹管连接（不锈钢波纹管伸缩幅度为150mm) ● 真空度：10-2Torr(用机械泵抽）10-5Torr(用分子泵抽） | ||
| 坩埚移动机构&PLC控制 | ● 一个直径为1/4＂的欧米伽铠装热电偶（K型），通过法兰伸入到炉管中，并可随坩埚移动，可实时监测样品的实际温度 ● 通过步进电机移动炉管内的坩埚（样品台），行程为100mm，移动精度为1mm ● 通过触摸屏设定坩埚一定的距离和目标位置，坩埚移动速度为180mm/min(更精确的移动速度，可与本公司联系定制，需额外收费） ● 可观察下图，了解坩埚与热电偶的安装方法 | ||
| 加热速率和冷却速率 | 可通过移动样品到已预加热的炉体中来得到的加热速率，也可将样品迅速移除高温的炉体，来得到的降温速率 | ||
| 加热速率 10℃/sec (150℃ - 250℃); 7℃/sec (250℃ - 350℃); 4℃/sec (350℃ - 500℃); 3℃/sec (500℃ - 550℃); 2℃/sec (550℃ - 650℃); 1℃/sec (650℃ - 800℃); 0.5℃/sec (800℃ - 1000℃); | 降温速率 10℃/sec (950℃ - 900℃); 7℃/sec (900℃ - 850℃); 4℃/sec (850℃ - 750℃); 2℃/sec (750℃ - 600℃); 1.5℃/sec (600℃ - 500℃); 1℃/sec (500℃ - 400℃); 0.5℃/sec (400℃ - 300℃); | ||
| 可选配件 | ● 可选购手动挡板阀（图1） ● 防腐型数显真空计（图4） ● 快速连接法兰，以方便于放置样品（图2） ● 多路质量流量计控制的混气系统，用于CVD和DVD实验（图5） | ||
| 尺寸 | |||
| 质保 | 一年质保期，终生维护（不含加热元件、炉管和密封圈） | ||
| 质量认证 | ● CE 认证 ● 所有电器元件（>24V）都通过 UL / MET / CSA 认证 ● 若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国 TUV 认证或 CAS 认证 | ||
| 使用注意事项： | ● 炉管内气压不可高于0.02MPa ● 由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全 ● 当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态 ● 进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击 ● 石英管的长时间使用温度＜1100℃ ● 对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉 管破裂，法兰飞出等） | ||
| 应用 | ● 此款设备可用于多种实验，以下列出了几种实验方法 ● RTE（快速热蒸发）：蒸发料放在坩埚中，放入到炉体中心，基片放在样品台上，样品台与热电偶相连接，然后将样品台移动到理想的位置（此位置温度是实验所需要的温度） ● HPCVD（混合物理化学沉积）：与RTE相似，但需配混气系统，对反应气体混合并控制流量，同时也需设定蒸发料的位置（确定蒸发料的蒸发温度） ● 水平布里奇曼（Bridgman）法来长晶体：将样品和籽晶放入到坩埚中，并将坩埚放入到炉体中心位置，然后设定坩埚移动速度，慢慢移动坩埚 | ||
