品牌
其他厂商性质
上海市所在地
用于电子显微镜的样品通常受益于薄膜的添加。它通常是导电材料,例如Pt,Pd或Au。这些导电层有助于抑制电荷,减少局部光束加热引起的热损伤,并改善二次电子信号。
传统上,这些薄膜是使用PVD技术生长的。随着技术的进步,某些类型的样品不能通过PVD提供,因为需要涂层的特征无法进入现场生长线。
研究人员将受益于ALD生长的导电薄膜,因为已经开发出针对小样品导电金属生长进行了优化的系统(与台式溅射的价格点相同)
为保形导电薄膜提供了用于 3D 样品制备的解决方案,同时还提供目前使用溅射/蒸发生长的传统 2D 镀膜。我们不仅突破了界限,而且是当前样品制备过程的有效替代品,所有这些都在台式配置中,价格相当。
热ALD / PEALD
沉积工艺:
金属:Ru、Ti、Co、…
氧化物:Al2O3、HfO2、TiO2、SnO2、NiOx、ZnO、ZrO、SiO2、RuO、,。。。
氮化物:TiN、TaN等,。。
基板尺寸:工件Z大为6英寸
源注入:双型喷头
基板加热器温度:RT至Z高350℃(@晶片)
前躯体化学源数量:3套
源瓶加热:RT至150℃
射频功率:600W@13.56Mhz
极限压力:≤5.0×10-3乇
泵:干式泵或旋转泵
沉积均匀度:≤±3%
系统控制:PC控制(UPRO软件)
可选 源瓶加热温度200℃
尺寸(宽*长*高)850mm*720mm*600mm