VDP-A系列等离子去胶系统
整机结构前端设备操作单元、前端EFEM单元及等离子处理单元 参考价面议
VCP系列晶圆级等离子清洗系统
整机结构带loadport系统分为前端设备操作单元、前端EFEM单元及等离子处理单元 参考价面议
VDP-B系列等离子去胶系统
整机结构前端设备操作单元、前端EFEM单元及等离子处理单元 参考价面议
VAP系列晶圆级等离子活化系统
整机结构带loadport系统分为前端设备操作单元、前端EFEM单元及等离子处理单元 参考价面议
AP1000-40R常压等离子处理机
机台名称：常压等离子射流模组机台型号：OKSUN-AP1000-40R模块化设计 参考价面议
韩国PSM常压等离子处理设备
射流型大气低温等离子处理机机台型号：PSM-AJP-1K特点：针对三维物体均匀高效的处理，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持 参考价面议
AP1000-02D常压等离子处理机
机台名称：常压射流模组机台型号：OKSUN-AP1000-02D模块化设计 参考价面议
PR60/80L真空等离子清洗机
机台型号：OKSUN-PR60/80L整机规格：PR60L:6层1200mm(W)times 参考价面议
PM80L真空等离子处理机
机台名称：真空等离子处理机机台型号：OKSUN-PM80L整机规格：8层920mm(W)times;1030mm(D)times;1720mm（H）电极规格：8层平板式电极板（420mmtimes;360mm）电源系统：1KW等离子体发生源（40KHz 参考价面议
常压（大气）流水线式设备UD系列
机台名称等离子体表面处理系统机台型号AP40R-UD3-G600机台用途通过通入压缩空气（CDA） 参考价面议
常压（大气）宽幅等离子设备
类型宽幅等离子体清洗设备PlasmaCleaning型号A款/M款/D款：100~3270mm（处理宽幅）构成等离子电源、UT气体控制单元、等离子电极单元规格/性能工艺气体处理间距处理温度水滴角N2+CDA3~12mm≤50ºC≤10°(100mm/s)产品优势：1、更优良的处理效果：放电面值增加至50mm，对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果 参考价面议
在线式等离子设备
在线式等离子设备 参考价面议

搜索历史