二流体表面处理设备

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参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-06-09 08:50:47
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科岛科临智能装备（合肥）有限公司

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产品简介

1、清洗流程：二流体清洗(可分段设置)-离心干燥;2、配备除静电离子风系统;3、整体不锈钢镜面机身坚固耐用，耐酸性、碱性等清洗液;4、高速离心脱水，工件表面无水痕残留;

详细介绍

产品特点

1、清洗流程：二流体清洗(可分段设置)-离心干燥;

2、配备除静电离子风系统;

3、整体不锈钢镜面机身坚固耐用，耐酸性、碱性等清洗液;

4、高速离心脱水，工件表面无水痕残留;

应用案例

专用于清洗切割后之晶片(Wafer)或玻璃片表面微尘

产品参数

名称/Name 二流体清洗机
型号/Model TS-08KL
电源/Power Supply AC 380 V/50 Hz，20 A
主轴转速/Spindle Speed 400-2800 r/min
清洗水压力/Wash Water Pressure 0.2-0.35 MPa
压缩空气压力/CDA Pressure 0.5±0.01 MPa
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