主要型号：

主要特点：
   A 采用的电流型开关电源技术，减小输出储能元件，
同时提高了抑制打火及重启速度，应用在铝靶镀膜优势更为明显。
   B 具备恒流/恒功率模式可选。恒功率模式相对于传统的恒流模式，
更能保证镀膜工艺的重复性。
  C 具有理想的电压陡降特性，自动识别伪打火现象，
充分满足磁控溅射工艺过程的连续性。
  D 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
  E 专门为试验型真空设备定制，相对生产型设备的直流磁控溅射电源，
为客户减小电源体积和降低成本
采用的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

直流磁控溅射用于镀制各种金属。